特点：

新型结构，电子束270°偏转。能使电子束以垂直方向打在镀膜材料上，且能有效防止灯丝污染

磁路冷却好，磁场长期稳定

新型枪头设计，拆卸方便，安装位置精度高，聚焦性能稳定

配置新型扫描发生器，可分别为生成方形、圆形、条形光斑，扫描范围最高可达50mm，充分利用磨料，适应不同工艺需要

坩埚可分为多穴埚（4穴、6穴、8穴、12穴）、环形埚、香蕉形埚等，尺寸和大小可根据用户需要而定

坩埚水冷系统新型设计，冷却充分，最大蒸发功率大10kw

适用于各种高要求的光学膜、电学膜的镀制

技术指标

蒸发功率：4kw~10kw

加速电压：-4kv!-10kv

电子束电流：0-1A

电子束偏转：270°

扫描范围X：±15mm

扫描范围Y：±15mm

扫描频率：0~500HZ