离子束溅射薄膜沉积设备

离子束溅射沉积技术可以获得致密、附着力强并且光滑平整的高质量薄膜。

本设备主要由电气控制系统、真空系统、离子源、靶台、样品台、水冷系统及膜厚实时测量系统等构成，具有污染小，成膜条件易于精确控制，离子束能量和束流可以精确调节，操作方便、制备薄膜重复性好等特点。

可广泛应用于各种功能薄膜材料的制备，特别是在DWDM光通讯系统、激光陀螺和高功率激光镜等光学薄膜元件的制备，以及半导体器件薄膜制备等。

设备结构：
* 真空室内腔尺寸可选
* 多靶自动选择
*  配备RF离子源
*  可选配辅助沉积/表面预清洗离子源
*  石英膜厚控制仪/光控系统测量
*  成膜过程全自动控制